珠寶玉石檢測中的X熒光光譜法

當下珠寶玉石行業(yè)， X熒光光譜法是珠寶玉石鑒定的主要手段之一。X射線熒光光譜技術在樣品的主要成分無損定量和定性分析上得到廣泛應用，成為貴金屬飾品檢測領域的重要手段。X射線作為一種電磁輻射，波長介于紫外線和射線之間，這種電磁輻射波長沒有嚴格的界限，隨著探測技術的發(fā)展，用X射線熒光光譜進行定量分析，已經(jīng)成為了元素分析的重要手段。X熒光光譜法在當今珠寶玉石行業(yè)檢測中得到了廣泛應用，這一方法對寶石不會造成損傷，同時也能夠提高檢測效率。使用X射線照射被測物，被測物激發(fā)出不同波長的熒光X射線，用儀器對波長不同的X射線進行接收分離，從而判斷其中的組成元素,對組成元素含量具體分析，檢測出珠寶玉石是否是合成和有無經(jīng)過優(yōu)化處理等。X熒光光譜儀利用這一原理進行檢測，有能量色散型X熒光光譜儀、波長色散型X熒光光譜儀之分。

X熒光光譜法在珠寶玉石檢測中應用廣泛，其主要優(yōu)勢體現(xiàn)在分析速度、檢測對象、分析密度等多方面。X射線在珠寶玉石檢測中不會對珠寶玉石造成損壞，與其他檢測方式相比具有獨特的優(yōu)勢，同時也是對檢測質量的有效保障。X熒光光譜儀分析速度快，在整個珠寶玉石檢測上僅僅需要幾分鐘就可以完成對一件珠寶玉石元素含量的檢測，檢測速度極快，在實際珠寶檢測中體現(xiàn)出明顯的效率優(yōu)勢。X熒光光譜技術對檢測對象的形狀、形態(tài)等條件沒有局限性，X熒光光譜儀在珠寶玉石檢測工作中不會受寶石形狀、化學結合狀態(tài)等條件影響，適用性廣泛。X熒光光譜技術在珠寶玉石檢測中的分析精密度極高，這是電磁輻射在珠寶玉石檢測中的優(yōu)勢，這種物理分析方法對檢測物中元素的化學性質分析有很高的效率，隨著現(xiàn)代科學技術的飛速發(fā)展，X熒光光譜技術在珠寶玉石檢測領域的應用會在泛度和深度上得到更大發(fā)展。

X熒光光譜儀在珠寶玉石檢測中的應用

X熒光光譜儀在珠寶玉石檢測中的具體應用主要有相似珠寶玉石鑒別、優(yōu)化處理珠寶玉石鑒別、類質同象珠寶玉石研究等幾個方面，同時在珠寶玉石元素的方面，從實際檢測數(shù)據(jù)分析中可以驗證X熒光光譜儀在珠寶玉石檢測上的可行性，這對解決傳統(tǒng)檢測手段無法測出一些珠寶玉石中的元素類別、含量等問題上有很大幫助。

X熒光光譜技術在珠寶玉石無損檢測上的高效率體現(xiàn)在相似珠寶玉石的鑒定上，從珠寶玉石的元素組成上對相似珠寶玉石進行鑒定和輔助分析。珠寶玉石原料種類較多，存在性質相似的情況，傳統(tǒng)檢測手段很難有精準的檢測結果，一些原料品種在外觀形態(tài)上很難區(qū)分，內(nèi)部折射率和密度也極為相似，在傳統(tǒng)檢測手段上存在較大難度，應用X熒光光譜儀進行技術分析，對相似珠寶玉石的內(nèi)部元素含量進行更為精確的分析，從X射線熒光光譜圖中可以很容易區(qū)分出來相似珠寶玉石的不同之處。這一技術在鑒別紫晶和紫色方柱石等相似類型的寶石上有顯著的效率優(yōu)勢。

X熒光光譜儀對當今珠寶玉石行業(yè)中優(yōu)化處理技術下的寶石也有明顯優(yōu)勢，對優(yōu)化處理后的珠寶玉石進行技術分析，鑒別天然寶石和人工合成技術下的成品，現(xiàn)代優(yōu)化處理技術下出現(xiàn)的高仿珠寶玉石成品流入珠寶玉石市場，很容易迷惑消費者。因此通過X熒光光譜儀對優(yōu)化處理技術產(chǎn)生的人工合成品進行鑒別，能夠幫助消費者識別優(yōu)化處理珠寶玉石與天然寶石。珠寶玉石中的紅寶石人工合成制作過程中采用鉛玻璃填充方法，其效果與天然紅寶石相似性較高，X熒光光譜儀能夠分辨出兩者之間的差異性，人工合成品中明顯的鉛元素在X熒光光譜儀中能夠較容易鑒別出來與天然紅寶石的細微不同之處。寶石優(yōu)化處理技術在X熒光光譜儀應用于珠寶玉石檢測后能夠更容易鑒別出來，同時X熒光光譜儀在輔助分析、鑒別合成翡翠、珍珠等珠寶玉石方面也有著明顯優(yōu)勢。

X熒光光譜儀在珠寶玉石檢測中的應用還體現(xiàn)在類質同象珠寶玉石方面上，類質同象在珠寶玉石檢測中主要是晶體結構中的離子、原子等結構類型上的線性變化現(xiàn)象，在這一現(xiàn)象的檢測研究上確定珠寶玉石中類質同象系列的名稱，能夠有效提升珠寶玉石檢測的效率和質量，這一過程中X熒光光譜儀的應用有著重要作用，珠寶玉石中的元素分析和含量統(tǒng)計分析為類質同象珠寶玉石的準確性檢測體提供了有效的數(shù)據(jù)幫助。X熒光光譜儀隨著X射線熒光光譜技術的發(fā)展不斷發(fā)展完善，在珠寶玉石鑒定領域依靠技術手段提高檢測的效率，不僅適用于以上幾種珠寶玉石檢測情況，隨著未來科學技術水平的不斷提高，珠寶玉石行業(yè)的發(fā)展也會不斷出現(xiàn)新的發(fā)展方向。

1.高度可靠性的上照射式光學系統(tǒng)
ZSX Primus IV具有場新的上照射式光學配置。用戶再也不用擔心由于維護樣品室導致的路徑污染或停止時間。上照射式幾何結構消除了清掃的擔心并增加了時間。

2.高精度樣品定位
高精度樣品定位確保了樣品表面與X設吸納管之間的距離恒定。這對例如合金分析等需要高精度的應用非常重要。ZSX Primus IV使用一個獨特的光學配置執(zhí)行高精度分析，用于減少由于例如電熔銖和壓片等樣品中的非平面表面導致的錯誤。

3.SQX 基本參數(shù)軟件與EZ掃描軟件

用戶使用EZ掃描軟件可以在無需任何事先設置即可分析位置樣品。這個節(jié)省時間的特征僅需點擊鼠標和輸入樣品名稱。結合SQX基本參數(shù)軟件，快速提供最準確的XRF結果。SQX能夠自動校正包括線重疊的所有矩陣效果。SQX還可以通過光電子（輕、超輕元素）、變化的環(huán)境、雜質和不同的樣品尺寸校正輔助的激發(fā)效應。使用匹配庫和完美的掃描分析程序提高準確性。